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便攜式接觸角測量儀ST-2在半導體行業的運用

  • 發布日期:2024-10-14      瀏覽次數:38
    • 便攜式接觸角測量儀ST-2在半導體行業的運用

      接觸角是指在液體或氣體中,物體表面與液面之間的交接處形成的角度,當物體表面與液體接觸時,如果物體表面的分子間吸引力大于液體分子間的吸引力,則物體表面會被液體浸潤;反之,如果物體表面的分子間吸引力小于液體分子間的吸引力,則物體表面不會被液體浸潤,在這種情況下,物體表面與液面的交接處形成一個銳角,稱為接觸角,接觸角的大小反映了物體表面與液體之間的相互作用力。

      接觸角測量通常通過光學或圖像處理技術進行,其中觀察液滴在固體表面上的形狀,并根據一定的幾何關系計算接觸角。這種測量不僅在科學研究中廣泛應用,還在工程和制造領域中有著重要的應用,例如在設計防霧鏡、改善液體流體系統和優化材料表面性質等方面。


      接觸角在科學和工程領域中的應用


      接觸角的應用非常廣泛,幾乎涉及到我們生活的方方面面。比如我們希望汽車玻璃上不沾雨水、但反之我們希望汽車鋼板上的油漆不脫落;比如農藥和蔬菜葉面、涂料和內外墻面、絕緣油和絕緣材料、納米材料表面改性等等。


      晶圓的潔凈度

      對于好的粘接來說,材料表面的潔凈度是至關重要的。RCA清洗是硅片加工前的標準清洗方法。清洗的目的是清除表面的所有異物,包括灰塵、油、硅塵等。清洗步驟分為兩個,RCA1和RCA2。RCA1將去除任何有機污染,而RCA2處理離子和金屬污染。中間通常用稀釋的氟化氫溶液去除氧化薄層。水破裂實驗通常用于檢查清潔程序后的表面狀態。水接觸角的測量提供了一種可追溯和定量的方法來進行表征。


      表征光刻膠的附著力


      適當的光刻膠附著力對于成功的光刻工藝是至關重要的。顯影或刻蝕過程中的附著力喪失將導致圖案錯誤,這對正在制造的設備來說是致命的。在光刻膠和硅片之間需要附著力促進劑,這一點早已被認識到。在應用光阻劑之前,常用的是六甲基二硅氮烷(HMDS)底漆。硅片上的水接觸角通常是相當低的,因為表面從環境濕度中吸附了水。如果在使用光刻膠之前沒有去除水層,那么在隨后的顯影或化學刻蝕過程中,光刻膠有分層的風險。在脫水烘烤后,通常會涂覆疏水性HMDS涂層,使表面更加疏水而不易吸水。水接觸角的測量可以用來尋找最佳的HMDS處理方案,并檢查處理是否成功。


      檢查PCB清潔度

      除去多余的助焊劑是焊接過程中的重要部分。這是因為一些助焊劑具有腐蝕性,它們的殘留物可能會繼續發揮作用,并在后期損壞電路板。由于助焊劑對PCB的有害影響,針對PCB有各種各樣的清潔測試。這些測試包括離子色譜、溶劑萃取電阻率(ROSE)測試、表面絕緣電阻(SIR)測試和目視測試。其中ROSE是最常使用的。ROSE測試的主要優點是測試速度快、價格低。問題是它不能檢測到所有類型的污染,而它能檢測到的污染是在整個表面上的平均值。水接觸角的測量為ROSE測試提供了一個很好的替代方案。水接觸角的測量是通過在PCB上放置一滴水來完成的。如果水珠凸起大(即接觸角大),表面不具有保形涂層。如果水擴散(即接觸角?。?,則表面沒有有機污染物,可以進行涂層。接觸角測量的優點是可以在非常小的區域進行。

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      產品配置:
        標準組件:測量裝置、橡膠目鏡、AA 電池、使用說明書 可選
        配件:便攜包、校準工具
        *請單獨準備一個可產生 2μL 液滴的微量移液器。

      產品特點:
      設備占地面積最小。無論板的大小,從小塊到大板。此外,測量板不需要安裝設備的整個表面都是平坦的;可以在凹入或相對于安裝設備的表面凹進的表面上進行測量。由于光源的電源僅為一節干電池,因此可用于戶外及任何領域的接觸角測量。

      規格:


      應用:
      各種形狀和尺寸的樣品
      +無法切割的基板玻璃板
          、車身、衛生潔具
      +嵌入式
          培養皿、凹透鏡、衛生潔具
      +防霧評估
         鏡片、遮陽板、護目鏡、窗玻璃
      清潔和表面改性評價
      +清洗評價
         晶圓、硬盤、玻璃面板
      +表面改性評價等
          離子、UV、電暈放電

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